Angew:稳定高指数刻面的NiO晶体的合成
痴迷文献 痴迷文献 2020-04-19

由于离子和极性的配位不足,改变了界面性质,因此与低指数刻面相比,暴露于高指数刻(HI)面的金属氧化物可能会在催化和吸附过程中产生一些影响。高指数(HI)材料在非均相催化中引人注目。虽然已经实现了几种可以暴露出HI面的立方对称材料的合成,但是,仍然很难可控合成控制这种形态的材料,同时,对其功效的基本了解仍然难以捉摸。

有鉴于此, 休斯顿大学Jeffrey D. Rimer报道了NiO颗粒的熔融盐合成,这些颗粒暴露了各种晶面。

文章要点:

1对于给定的阴离子(硝酸根或氯离子),碱金属阳离子对暴露于{311},{611},{100}和{111}面的晶体形成有明显的影响。

2基于对合成条件的参数分析,研究人员认为其结晶机理是由生长单元的形成决定的,该生长单元由镍(II)配合物组成,其配位数由温度以及阴离子(与配位球相关)和碱性阳离子(与外部协调范围相关)的选择决定。

3研究表明,在氯化物介质中特别容易合成高指数面NiO晶体,并且其在长时间的催化和蒸汽作用下能够保持稳定。

总的来说,研究结果说明了熔盐法具有可扩展合成高表面能金属氧化物的潜力。

Mariano D Susman, Synthesis of NiO Crystals Exposing Stable High-Index Facets, Angew. Chem. Int. Ed., 2020

DOI:10.1002/anie.202003390

https://doi.org/10.1002/anie.202003390


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