普林斯顿大学Paul J.Chirik等报道了通过担载双膦吡啶配体（^iPrPNP）修饰的Co配合物分子用于各种电子结构芳烃分子的C(sp²)-H键硼烷化反应，对各种苯甲酸酯类、芳基硼酸酯底物，能够高选择性在对位修饰硼酯官能团。这种对位选择性和之前报道的(^iPrPNP)Co硼烷化催化剂对邻位修饰的过程有明显的区别。

本文要点：

（1）

反应优化。以5 mol % [(^iPrPNP)Co]作为催化剂，在23 ℃ THF中反应24 h，能够以较高的选择性在对位进行官能团化，在间位官能团化的选择性非常低，基本上不会在邻位上发生反应。

（2）

反应机理。对该催化反应过程中，催化剂、芳基底物（2f）、B₂Pin₂三种物种的动力学情况进行表征，得出该反应速率遵循着Rate=k[1-(H)₂BPin]¹[2f]⁰[B₂Pin₂]⁰。考察了温度对2f底物反应位点选择性情况进行表征，发现该催化体系中温度降低，催化位点的选择性明显提高。考察了氘代同位素效应，发现该反应中显示有非常明显的同位素效应。

参考文献

Tyler P.Pabst, LindaQuach, Kaitlyn T.MacMillan, Paul J.Chirik*, Mechanistic Origins of Regioselectivity in Cobalt-Catalyzed C(sp²)-H Borylation of Benzoate Esters and Arylboronate Esters, Chem 2020

DOI: 10.1016/j.chempr.2020.11.017

https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2451929420306008