MXene薄膜的大规模制备在各种应用中都有很高的需求，但目前的工艺仍然很难满足其工业化的要求。
近日，韩国延世大学Dae Woo Kim，Jeong Ho Cho报道了开发了一种用于制备大面积MXene膜的缝式挤压型涂布技术。
文章要点
1）这项技术可以以6 mm s−1的快速涂布速度制造连续且可缩放的涂层。厚度可以很容易地控制在纳米级到微米级，并通过凹槽模头的剪切力来增强纳米片的对准。
2）研究人员对厚度约为100 nm的薄膜进行了分子分离实验。结果显示，这种纳滤膜的透水率为190 LMH/bar，截留分子量为269 Da，超过了以往所报道的MXene基纳滤膜的过滤性能。同时，该膜的稳定性突出表现在其在严酷的氧化条件下30天的纳滤性能，这是2D材料基膜有史以来工作时间最长的一次。因此其突出的稳定性使得其在工业和实际应用中具有极高的应用潜力。
3）研究发现，所制备的MXene基纳滤膜的出色抗氧化现象可以归因于被吸附的有机分子对MXene表面的自我保护作用，特别是通过化学吸附与带正电荷的分子相结合来稳定MXene表面。
参考文献
Ji Hoon Kim, et al, Large-Area Ti3C2Tx‑MXene Coating: Toward Industrial-Scale Fabrication and Molecular Separation, ACS Nano, 2021
DOI: 10.1021/acsnano.1c01448
https://doi.org/10.1021/acsnano.1c01448
