斯坦福大学J. Du Bois、犹他大学Matthew S. Sigman等报道发展了一种操作简单方便的合成方法学，以酸性环境稳定双联吡啶配位修饰Ru配合物作为催化剂，实现了较高的选择性进行特定位点C-H键的氧化。作者发现远离催化C-H键位点的电子结构显著影响催化反应活性，通过选择反应溶剂得以调控反应位点选择性，比如在二氯乙酸溶剂中具有对2°亚甲基最高的氧化性。

本文要点：

（1）

作者发现通过改善保护基团能够进一步提高反应选择性，强酸性环境中在底物和溶剂之间产生氢键，从而进一步改善催化剂位点选择性。

（2）

作者建立了一种静态模型预测反应产物选择性和产物分布，发现通过比较C-H键能量（E_σC-H）能够很好的预测反应的位点。作者通过模型计算发现，该反应选择性是通过“电子富集”C-H键导致。而且作者进一步探索了如何通过配体结构调控改善催化反应效率。

参考文献

Jeremy D. Griffin, David B. Vogt, J. Du Bois*, and Matthew S. Sigman*, Mechanistic Guidance Leads to Enhanced Site-Selectivity in C–H Oxidation Reactions Catalyzed by Ruthenium bis(Bipyridine) Complexes, ACS Catal. 2021, 11, 10479–10486

DOI: 10.1021/acscatal.1c02593

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acscatal.1c02593