目前一些光谱学、电化学分析方法在研究光电催化反应界面化学反应研究中得以应用，其中交流（AC）表征技术是比较少用的方法，虽然交流表征比直流（DC）电化学表征在阻抗表征中具有多种优势。AC表征技术在上个世纪的早期就得以发展，但是当时这种AC表征技术并未得到广泛发展和应用。

有鉴于此，韩国汉阳大学Pitchiah E. Karthik、SungChul Yi，赫瑞-瓦特大学Sudhagar Pitchaimuthu、早稻田大学Sengeni Anantharaj等综述报道讨论如何应用这些交流电化学表征技术，具体分别讨论了Mott-Schottky阻抗分析、电化学阻抗分析（等效电路分析、电容谱）；强度调制光电流谱（IMPS）；快速扫描高振幅傅里叶变换交流伏安法（FS-HA-FT-AC）；成对电解（paired electrolysis），对进一步发展光电催化反应中的界面测试非常有用。

本文要点：

（1）

通过相关表征技术和分析技术的发展，能够对AC信号在带电界面导致电势震荡变化，阻抗，HA-FT-AC伏安，成对电解方法对光催化、光电催化的反应和反应动力学进行研究。而且，通过在同一时间输入多重信号，并且通过小波变换（wavelet transforms）能够进一步的对电化学反应进行深入研究。

（2）

当相同电势区间和电极界面上存在多个竞争性反应同时发生时，DC技术无法很好的进行表征，在这种情况中，AC技术能够克服干扰反应造成的影响，通过改变交流振幅和频率实现对感兴趣的目标反应进行研究。作者总结了在这种情况，阻抗效应与霍尔效应测试相比，如何更好的表征载流子密度和平带电势，介绍了FS-LA-FTAC如何用于区分光电催化反应相互重叠的信号。随后作者讨论了交流方法在成对电催化反应研究中的优势。

参考文献

Pitchiah E. Karthik*, Vasanth Rajendiran Jothi, Sudhagar Pitchaimuthu*, SungChul Yi*, and Sengeni Anantharaj*, Alternating Current Techniques for a Better Understanding of Photoelectrocatalysts, ACS Catal. 2021, 11, 12763–12776

DOI: 10.1021/acscatal.1c03783

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acscatal.1c03783