Angew: 在SiO2表面修饰强酸性Al
纳米技术 纳米 2022-08-13

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加州大学河滨分校Matthew Conley等报道通过Al(OC(CF3)3)(PhF)与部分脱氢氧化处理的SiO2表面Si-OH反应生成结构明确的≡SiOAl(OC(CF3)3)2(O(Si≡)2) (1),通过27Al NMR表征和较小的簇模型模拟SiO2表面DFT计算,发现1表现为畸变的三角双锥配位结构,该位点与相邻烷氧化物有关的硅氧烷桥和氟原子配位。

本文要点:

(1)

通过氟离子亲和性计算的结果与实验结果相符,发现1具有比B(C6F5)3或者Al(OC(CF3)3)(PhF)更强的Lewis酸性,但是比Al(OC(CF3)3)或者iPr3Si+的Lewis酸性更弱。

(2)

通过methide反应,Cp2Zr(CH3)21之间反应生成[Cp2ZrCH3][≡SiOAl(OC(CF3)3)2(CH3)] (3),该反应过程与Al2O3表面强Lewis酸位点与有机金属化合物之间的反应非常类似。

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参考文献

Kavyasripriya K. Samudrala, Winn Huynh, Rick W. Dorn, Aaron J. Rossini, Matthew Conley, Formation of a Strong Heterogeneous Aluminum Lewis Acid on Silica, Angew. Chem. Int. Ed. 2022

DOI: 10.1002/anie.202205745

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202205745


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