ACS Nano:在电流密度为 500 mA/cm2 的电化学 CO2 还原过程中具有高 C2+ 选择性和良好稳定性的纳米晶界富 Cu2O-Cu 纳米立方体
Nanoyu Nanoyu 2023-06-21

表面和界面工程,尤其是丰富的Cu0/Cu+界面和纳米晶界的创建,已知可促进铜基催化剂在电化学CO2还原过程中产生C2+。然而,精确控制具有表面结构(例如Cu(100)小平面和Cu[n(100)×(110)]步位)的有利纳米晶界并同时稳定Cu0/Cu+界面具有挑战性,因为Cu+物种非常敏感在高电流密度下被还原成大块金属铜。因此,必须深入了解Cu基催化剂在实际CO2RR条件下的结构演变,包括纳米晶界和Cu0/Cu+界面的形成和稳定。

在这里,华南理工大学Guangxu Chen ,香港城市大学Xue Wang ,台湾阳明交通大学Sung-Fu Hung ,奥克兰大学Geoffrey I. N. Waterhouse证明了Cu2O纳米立方体在CO气氛下的良好控制热还原产生了非常稳定的Cu2O-Cu纳米立方体杂化催化剂(Cu2O(CO)),具有高密度的Cu0/Cu+界面,丰富的纳米晶界与Cu(100))刻面和Cu[n(100)×(110)]步位点。

文章要点

1在500mA/cm2的工业电流密度下,Cu2O(CO)电催化剂在CO2RR期间提供了77.4%(乙烯为56.6%)的高C2+法拉第效率。

2光谱表征和形态演化研究,连同原位时间分辨衰减全反射-表面增强红外吸收光谱(ATR-SEIRAS)研究,确定了所制备的Cu2O(CO)催化剂的形态和Cu0/Cu+界面位点由于纳米晶界丰富的结构,在高极化和高电流密度下得以保存。此外,Cu2O(CO)催化剂上丰富的Cu0/Cu+界面位点起到增加*CO吸附密度的作用,从而增加C-C偶联反应的机会,从而导致高C2+选择性。

 

参考文献

Qiqi Wu, et al, Nanograin-Boundary-Abundant Cu2OCu Nanocubes with High C2+ Selectivity and Good Stability during Electrochemical CO2 Reduction at a Current Density of 500 mA/cm2, ACS Nano, 2023

DOI: 10.1021/acsnano.3c04951

https://doi.org/10.1021/acsnano.3c04951


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