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米测MeLab 纳米人 2024-02-26

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特别说明:本文由米测技术中心原创撰写,旨在分享相关科研知识。因学识有限,难免有所疏漏和错误,请读者批判性阅读,也恳请大方之家批评指正。
原创丨Andy(米测 技术中心)
编辑丨风云


研究背景  

随着有机电子学领域的发展和应用范围的不断拓展,对高性能有机材料的需求日益增加。有机电子材料在柔性电子、光电转换、传感器等领域展现出了巨大的潜力,但同时也面临着诸多挑战。其中一个关键挑战是如何在室温下、以可扩展的方式合成具有高分子量、结构规整且低缺陷密度的有机聚合物。

Suzuki–Miyaura聚合反应作为一种重要的交叉偶联反应,在有机合成中被广泛应用。然而,传统的Suzuki–Miyaura反应通常需要高温条件和复杂的反应条件,且易受结构缺陷的影响,因此在有机电子学领域的应用受到限制。特别是,同偶合结构缺陷对于高性能有机器件的性能具有负面影响,因此迫切需要一种新的方法来解决这一问题。    

为了解决这一问题,中国科学院大学黄辉、史钦钦和美国西北大学Tobin J. Marks等人联合在nature materials材料顶刊发表题为“General room-temperature Suzuki–Miyaura polymerization for organic electronics”的最新发现。该文中科学家们开发了一种通用的、室温下进行的Suzuki–Miyaura聚合反应。这项研究旨在开发一种能够在室温下、可扩展的条件下制备高性能有机聚合物的方法。通过优化反应条件和催化剂选择,他们成功地实现了在室温下制备具有高分子量、结构规整和低缺陷密度的有机聚合物。这项研究解决了传统Suzuki–Miyaura聚合反应存在的高温、结构缺陷等问题,为有机电子学领域提供了一种新的、可行的合成方法。这种通用的室温Suzuki–Miyaura聚合反应为高性能有机电子材料的制备提供了一种更加便捷、高效的途径,有望推动有机电子学领域的进一步发展和应用。


研究内容   

图1展示的研究通过发展一种室温下的Suzuki–Miyaura聚合方法,解决了传统Suzuki–Miyaura聚合过程存在的一系列关键问题。具体来说:图1a 提到了传统Suzuki–Miyaura聚合过程的几个关键限制。其中包括高温条件可能影响化学选择性,导致结构缺陷,以及需要使用外源碱在两相体系中进行交叉偶联,可能引起竞争性的脱硼脱除反应;图1b 展示了一种新的聚合方法,即使用Buchwald型预催化剂和三甲基硅酸钾(TMSOK)在室温下进行Suzuki–Miyaura聚合。这种方法具有通用性,可合成多达24种CPs,包括不同连接性的供体-受体(D-A)、供体-供体(D-D)和受体-受体(A-A)。这种室温下的聚合方法具有多个优势。首先,它能够在室温下操作,避免了传统高温条件可能引发的问题。其次,通过使用Buchwald型预催化剂和TMSOK,避免了对外源碱的依赖,减少了脱硼脱除反应的竞争性生成。这有助于提高聚合产率,增加分子质量,并显著减少结构缺陷。最终,这种方法在批次间具有高度一致性,并且能够扩展至大规模生产,具有出色的制造/工业化潜力。这一切通过直接转金属化硼酸盐的关键作用来实现,从而抑制生成结构缺陷的脱硼脱除反应(见图1)。    

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图1. Suzuki–Miyaura聚合反应以制备π-共轭聚合物。

图2显示了这种室温下聚合的机理。首先,在无水条件下处理杂环芳基硼酸酯Sn1,没有观察到脱硼脱除,而定量地分离出了硼酸酯Sn2。接着,对Sn2和溴苯Se1进行了化学计量反应,结果得到了交叉偶联产物Sp1,收率为98%,说明硼酸酯Sn2可以直接发生金属化反应。为了进一步探究反应的途径,进行了DFT计算。计算结果显示,反应始于磷基催化剂Pd[P(t-Bu)3]与Se1配体形成中间体IM1,随后通过氧化加成生成IM2。在Sn2的协助下,IM2转化为IM3,形成IM4,然后经过还原消除生成最终产物Sp1。这些结果表明,稳定的硼酸酯不发生脱硼脱除,而硼酸酯的直接金属化是实现高质量CPs合成的关键步骤。    

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图2. 机理研究结果。

图3显示了对这种聚合方法的一致性和可扩展性进行的评估。在图3a中,通过进行四次重复实验,得到了共聚物P1,其分子质量(Mn)在114.2至123.4 kDa之间,聚分散度(Ð)在1.97至2.11之间,产率在95%至97%之间,表明了该方法具有出色的一致性。在图3b和c中,进行了100克级别的聚合反应,并且即使将催化剂用量从5.0降低到2.5摩尔%,仍然以95%的产率获得了具有高Mn(107.6 kDa)的共聚物P1。这表明该聚合方法具有优异的可扩展性,即使在降低催化剂用量的情况下,也能保持高产率和目标分子量的合成。    

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图3.对当前聚合方案的实际均匀性和可扩展性的研究。

图4展示了对P5和P9的直接比较,以及通过传统的Stille聚合反应制备的共聚物P5b和P9b。首先,通过1H NMR谱图,在P5和P9(也称为P5a和P9a)与P5b和P9b之间进行了直接比较,以检测和定量潜在的同偶联结构缺陷(图4a和补充图7-9)。在1H NMR谱图中,P5b和P9b显示出明显的同偶联缺陷峰,而P5a和P9a则显示出较少的同偶联缺陷。通过基质辅助激光解吸/飞行时间质谱法进一步验证了P5和P9的结构,确认了Suzuki–Miyaura室温聚合方案制备的CPs具有交替结构,没有可检测到的同偶联缺陷。

接着,通过对P9系列共聚物的进一步研究,探讨了结构缺陷对材料光物理性质的影响。P9a和P9b在溶液中的紫外-可见光谱显示出广泛的吸收峰,其中P9a的吸收峰相对于P9b表现出明显的红移,表明P9a具有更高的聚合链序。此外,通过热导电谱法测量了P9a和P9b薄膜的陷阱密度,结果显示P9a的陷阱密度明显低于P9b,这与P9a具有更大的电荷离域性相一致。进一步通过场效应晶体管测试,发现基于P9a的器件的空穴迁移率远远高于基于P9b的器件,这表明该聚合方法能够提高器件的光电性能。

最后,通过二维全方位散射宽角X射线衍射(2D-GIWAXS)测量研究了P9a和P9b的薄膜结构。结果显示,虽然两种共聚物都显示出优选的边向取向,但P9a的层状堆积和π–π堆积距离更短,晶体相干长度更大,表明P9a具有更紧凑和有序的堆积结构。这些结果进一步证明了该聚合方法能够抑制同偶联缺陷,并改善材料的固态结构,从而提高光电性能。    

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图4. 同偶合缺陷分析。

展望   

本文开发了一种室温下可扩展的Suzuki–Miyaura型聚合反应方法,用于精确合成高分子量、结构规整、低缺陷密度的π-共轭聚合物,为高性能光电子器件提供了可持续制备的通用工具。这项研究为开发高效、绿色的合成方法提供了范例,对于聚合物材料领域的科学家和工程师提供了新的思路和启示。

原文详情:
Xiong, H., Lin, Q., Lu, Y. et al. General room-temperature Suzuki–Miyaura polymerization for organic electronics. Nat. Mater. (2024). 
https://www.nature.com/articles/s41563-023-01794-9 

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