基于纺织品的可穿戴电子产品因其独特的三维多孔结构所固有的出色柔韧性和透气性而引起了广泛的研究兴趣。然而，挑战之一在于在不牺牲佩戴舒适性的情况下实现具有高精度和鲁棒性的高导电性图案。

香港理工大学Zijian Zheng、Qiyao Huang和南方科技大学Yuanjing Lin等开发了一种通用且强大的织物内光刻策略，用于在多孔织物结构上进行精确和均匀的金属图案化。

本文要点：

（1）

制造的金属图案实现了低于100 μm的高精度，具有理想的机械稳定性、可洗性和渗透性。此外，渗透到纺织品支架内部的这种可控涂层有助于通过纺织品的两侧显著提高小型化设备和电子集成的性能。作为概念验证，展示了一个用于多路汗液传感的完全集成的纺织品内系统。

（2）

所提出的方法为构建具有可靠性能和佩戴舒适性的多功能纺织品基柔性电子产品开辟了新的可能性。

参考文献:

Wang, P., Ma, X., Lin, Z. et al. Well-defined in-textile photolithography towards permeable textile electronics. Nat Commun 15, 887 (2024).

DOI: 10.1038/s41467-024-45287-y

https://doi.org/10.1038/s41467-024-45287-y