郑州大学Angew:界面局部H*富集促进电催化还原硝酸盐
纳米技术 纳米 2024-09-05

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电催化还原硝酸盐(NO3RR)反应过程需要8个电子和9个质子,调节提供活性氢(H*)的过程以及深入理解NO3RR的反应过程对于改善合成氨的产率和法拉第效率非常重要。

有鉴于此,郑州大学臧双全教授、蔡金孟副教授等报道合成一系列原子结构明确的Cu卤团簇材料,Cu2X2(BINAP)2 (X=Cl, Br, I),发现Cu2Cl2(BINAP)2 具有最好的合成氨法拉第效率(94.0 %)和氨产率(373 μmol h-1 cm-1)。

本文要点

(1)

通过原位表征实验和理论计算,说明卤原子尤其是Cl原子能够显著的影响碱金属-催化剂表面的离子化水分子之间的距离,促进水分子解离,增强局域H*富集用于硝酸盐连续的加氢生成NH3

(2)

这项研究说明H*在NO3RR反应加氢过程中的重要作用,展示了局域H*富集能够改善NO3RR的法拉第效率。

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参考文献

Su-Jun Zheng, Xiao-Yu Dong, Hong Chen, Ren-Wu Huang, Jinmeng Cai, Shuang-Quan Zang, Unveiling Ionized Interfacial Water‐Induced Localized H* Enrichment for Electrocatalytic Nitrate Reduction, Angew. Chem. Int. Ed. 2024

DOI: 10.1002/anie.202413033

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/anie.202413033


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